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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作业厂处于华东政府政府,主要的工作制造89英寸半导体行业晶圆,平均废水处理减排量约800吨。可能工作制造全过程中的使用大量的盐酸做出晶圆蚀刻,使得废水处理中氟化物溶度高达mg200-300mg/L,远超政府减排准则(10mg/L以上)。 化工废水成份及由来 焦化废水具体源于3个阶段: 晶圆蚀刻生产工艺 :含高氧化还原电位氟化物(HF)、氰化钠及少量出血本属 化学反应机械厂磨光(CMP)废水处理工艺 :含纳米级级硅粒状、有机会络合剂 设施清晰废水处理方法 :含异丙醇、挥发酚等有机肥料物 处里的工艺步骤流程 用于"物理化学发展+混凝土发展+广度过滤程序"两级工作程序: 四级进行处理 :污泥脱水氯化钙和氢腐蚀钙,养成氟化钙积累,氟化物删去率达85% 下级正确处理 :增加PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚丙乙烯酰胺),避开电解质溶液态被污染的物 三级视频加工 :顺利通过多有机溶剂过滤水器和灵家用活性炭吸附性,出水量氟化物酸度保持稳定在8mg/L下列 关键性装备涉及:pH会自动改善系统软件、斜管沉垫池、板框板框压滤机(淤泥脱水过滤)。 最终能够特效 工程项目工作五年期监测器数据资料显现: 氟化物均衡氨水浓度:7.2mg/L(降到地区规范) COD避开率:92% 污泥干化含水量率:≤65% 年回收并氟化钙副货品约150吨,控制资源的化巧用

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